中頻真空鍍膜機一般要配一臺冷水機作為鍍膜機(主要是圓柱靶)的冷卻設備。那么冷水機到底對真空鍍膜工藝或者是鍍膜設備有什么作用呢?不配冷水機會(huì )有什么影響呢?

中頻設備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應，電荷會(huì )聚集在電導有表面積，這樣使電導發(fā)熱所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。

真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會(huì )產(chǎn)生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無(wú)光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，果如真空度不高結晶體就會(huì )失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結合差工效低光澤差?，F在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜，解決了過(guò)去自然蒸發(fā)無(wú)法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

從更深層次研究電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運動(dòng)規律 , 探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對稱(chēng)性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜 - 基結合力好、裝置性能穩定。

(主要是圓柱靶)為什么也要用水冷卻?磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會(huì )產(chǎn)生高溫會(huì )使射槍變形，所以它有一個(gè)水套來(lái)冷卻射槍。同時(shí)還有一個(gè)重要原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜 - 基結合力好。